名词十字线,刻线
1. 光罩:Fab生产区域内最在意静电(ESD)效应的区域为何?答:Photoresist(光阻).是一种感光的物质,其作用是将Pattern从光罩(Reticle)上传递到Wafer上的一种介质. 其分为正光阻和负光阻.
2. 瞄准线:新一代瞄准具的一种,以电子成像将瞄准圆点或瞄准线(reticle)投射在瞄准具镜面上,当射手从瞄准具看出时,瞄准圆点(通常是个红点)似乎就落在目标的瞄准点之上.
3. 标线片:ADS 2006A提供的多种其它新技术与增强功能包括:提升了大型毫米波芯片(MMIC)及标线片(reticle)的布线连接功能及效能;更快速的电路与EM仿真器,可支持64位的计算机架构,能解决对五年前提出之32位架构的计算机来说运算量太大的各种设计问题.
4. 刻线:此外,不仅设计技术不会直接转移至光罩上,光罩刻线(reticle)的形状与刻印在晶圆上的电路也会有所差异,让光罩检验的工作面临严苛的挑战. Numerical的Virtual Stepper软件可支持仿真式的光罩检验作业,能仿真硅组件在光罩以特定蚀刻条件蚀刻后所产生的结果,